くまもと３D連携コンソーシアム
会員機関各位

くまもと３D連携コンソーシアム
会長　青柳 昌宏

　平素より、くまもと3D連携コンソーシアムの取り組みにお力添えをいただきありがとうございます。くまもと3D連携コンソーシアム事務局より「第2回産学連携交流セミナー」のご案内です。

　この産学連携交流セミナーは、「会員企業や大学研究者との技術、ビジネス交流の場を提供」「地域企業が気軽に大学との産学連携に関心を持っていただけるような支援」「大学をプラットフォームに企業同士の交流の場を提供」すること目的としており、今回で2回目の開催になります。

　みなさまのご参加を心よりお待ちしております。

【第２回産学連携交流セミナー】　チラシはこちらから

■日　時：2025年2月18日（火）10：00～11：00（受付　9:45～）

■会　場：熊本大学　黒髪南地区・黒髪南W3（共用棟黒髪1）2階 物生講義室（203室）

　　　　　https://www.kumamoto-u.ac.jp/campusjouhou/map_kurokami_2　（キャンパスマップで50番の建物です）

■講　師：百瀬　健　教授（熊本大学　半導体・デジタル研究教育機構　先端分野）

■概　要：

半導体デバイスは性能向上、多機能化のため微細化、三次元化が進んでいます。デバイス形成の最重要技術の一つである製膜プロセスもこの構造変化に合わせていくつもの新規プロセスが導入されてきました。今後の更なる変化に対応するには複雑構造への均一製膜が可能な化学反応を利用した製膜プロセス「化学製膜」が必須です。本セミナーでは、「化学気相成長法（CVD:Chemical Vapor Deposition）」「原子層堆積法（ALD: Atomic Layer Deposition）」、「超臨界流体薄膜堆積法(SCFD: Supercritical Fluid Deposition)」を概説します。また、目まぐるしい社会変化に応じた迅速なプロセス構築のためには、製膜速度、膜厚、表面粗さ、膜組成、不純物濃度等を製膜中に評価する「その場観察技術」の活用が重要となるため、製膜プロセス用その場観察技術についても概説します。新たなその場観察技術の創出には、諸般の事情で使用されず眠っている技術の活用や半導体以外の分野で培われた技術の転用も重要であり、各社がお持ちの分析技術を再考するきっかけにもなれば幸いです。

【お申込み方法】 参加はフォームよりお申込みください（申込期限：2025年2月17日（月））

　　　　　　お申し込みは締め切りました

◆◆ご注意ください◆◆

熊本大学黒髪キャンパスへ車両での入構は有料となります。また、現在キャンパス内の工事等により駐車スペースに制限があります。　　　　　　　　　　公共交通機関のご利用、乗合いでの来学にご協力をお願いいたします。